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成都刻章-光敏印章---成都刻章网
    发布时间: 2014-11-08 16:54    
光敏印章是上个世纪九十年代初由日本发明的，它是由一种特殊的化工合成材料，通过专用设备瞬间发出强光辐射，使材料表面发生光氧化及热交联作用从而制成的印章。
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